Summary in Japanese:
– 米国商務省は、NISTによる新しいガイダンスとソフトウェアを公開し、AI開発者が生成AIおよび二重利用ファウンデーションモデルからのリスクを評価および軽減するのに役立つようにした。
– アメリカ特許商標庁が特許対象のAI技術についてガイダンスを更新し、新たな例を提供。
– NTIAがAIモデルのリスクと利点についての報告を発表し、政策提言を行う予定。
– NISTからの新しい公開資料は、AI技術の様々な側面をカバーし、AIの生成技術のリスクを管理するためのガイダンスを提供。

Thoughts in Japanese:
今回の米国商務省の取り組みは、AI技術の安全性、セキュリティ、信頼性の向上に向けた重要な一歩であると感じます。生成AIや二重利用ファウンデーションモデルからのリスクを評価し軽減するための取り組みは、技術の進化に伴う新たな課題に対処する上で必要不可欠です。また、特許対象のAI技術に関するガイダンスの更新や、AIモデルのリスクと利点に関する報告の発表は、技術革新を促進しつつ、潜在的なリスクを最小限に抑えるための取り組みとして重要です。AI技術の発展に伴い、これらの取り組みが技術の安全な発展と社会へのポジティブな影響をもたらすことを期待しています。

元記事: https://www.commerce.gov/news/press-releases/2024/07/department-commerce-announces-new-guidance-tools-270-days-following